中企突圍傳製出28奈米光刻機
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美國政府重點打擊中國半導體產業，中國光刻設備製造商上海微電子裝備（SMEE）此前被列入制裁，被限制獲取美國技術。不過，有媒體報導，上海微電子似突破限制，已成功研製出28奈米（納米）光刻機。 新加坡聯合早報報導，統籌上海張江科學城開發建設的張江集團19日在集團微信公眾號「你好張江」發文稱，「作為國內唯一一家掌握光刻機技術的企業，上海微電子已成功研製出28nm光刻機。」 據報導，「鈦媒體」形容，張江集團公布的這一消息，標誌著中國最新28奈米前道光刻機研發進展首次被官方披露。 報導指出，張江集團是一家統籌承擔張江科學城開發建設、專案引進等重要功能的國有獨資公司，隸屬於上海市浦東新區政府監管單位。「天眼查」資訊顯示，張江集團是上海微電子的第四大股東。消息傳出後，張江集團股價飆升了8%。 不過，張江集團之後對文章進行了修改，目前的文章中拿掉了關於28奈米的表述，改為「作為國內唯一一家掌握光刻機技術的企業，上海微電子致力研製先進的光刻機。」 公開資料顯示，上海微電子（SMEE）成立於2002年，是由中國多家產業集團和投資公司共同投資組建的高科技股份有限公司。公司主要致力於半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發、設計、製造、銷售及技術服務。 |
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